一、光刻設備行業(yè)簡介

光刻設備是半導體制造中的核心設備，其技術門檻和資金門檻都非常高，被譽為集成電路產業(yè)皇冠上的明珠。光刻設備的主要功能是將設計好的集成電路圖形通過光線的曝光印制到硅襯底的光感材料上，實現圖形的轉移。這一過程在芯片生產中需要重復多次，決定了半導體線路納米級的加工精度，對功率以及光源的要求十分復雜，對光刻機的技術要求十分苛刻，對誤差和穩(wěn)定性的要求極高。因此，光刻機的分辨率、精度成為其性能的評價指數，直接影響到芯片的工藝精度以及芯片的功耗、性能水平。

二、光刻設備行業(yè)產業(yè)鏈分析

光刻設備的產業(yè)鏈包括上游的零件、組件和設備等，以及下游的應用如芯片制造、功率器件制造、芯片封裝等。光刻機涉及的內部零件種類眾多，且越高端的光刻機組成越復雜，其核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺、物鏡系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。因此，光刻機企業(yè)往往具備高外采率、與供應商共同研發(fā)的特點。

三、全球光刻設備行業(yè)發(fā)展現狀

光刻機市場呈寡頭壟斷格局，由國外企業(yè)主導，ASML、Nikon、Canon占絕大多數市場份額。全球光刻機市場由國外企業(yè)主導，主要競爭公司為荷蘭ASML、日本Nikon和Canon，其中ASML占絕對霸主地位，ASML市場份額占比82.1%，Canon占比10.2%，Nikon占比7.7%。

ASML壟斷高端光刻機市場，Nikon緊隨其后，Canon在中低階市場中占比較高。ASML擁有絕對優(yōu)勢，2022年共計出貨345臺；Canon緊隨其后，出貨量達176臺；Nikon相對數量較少，僅出貨30臺。在超高端光刻機EUV領域中ASML獨占鰲頭，高端光刻機ArFi和ArF領域也主要由ASML占領；Canon主要集中在i-Iine領域；Nikon除EUV外均有涉及。
圖表：2021-2023年全球光刻設備行業(yè)市場規(guī)模

四、全球重點廠商分析

ASML是全球最領先的光刻機行業(yè)龍頭企業(yè)，市場份額占比高達82.1%。自1984年成立以來，ASML一直幫助芯片制造商將技術推向新的極限并釋放社會潛力，其硬件、軟件和服務共同提供了一種大規(guī)模生產微芯片圖案的整體方法，目前已成長為全球最領先的光刻機龍頭。

ASML擁有全面、豐富的光刻機產品線，并提供翻新產品業(yè)務。ASML擁有極紫外（EUV）和深紫外（DUV）兩大類光刻系統(tǒng)，其中DUV包括浸入式系統(tǒng)（NXTi平臺）和干式系統(tǒng)（NXT和XT平臺），并提供翻新產品業(yè)務對舊光刻系統(tǒng)進行翻新、升級，目前提供翻新的有PAS5500和第一代AT、XT和NXT系統(tǒng)。

浸入式系統(tǒng)行業(yè)領先，EUV技術為其獨有。ASLM的浸入式系統(tǒng)在生產力、成像和覆蓋性能方面處于行業(yè)領先，適用于最先進邏輯和內存芯片的大批量生產，最新的NXT機器已顯示出每天運行超過6，000個晶圓的能力，在12個月內平均提高5%的生產力。EUV機使用波長僅為13.5nm的光打印微芯片，該技術為ASML獨有，EXE系統(tǒng)是最新一代EUV光刻技術，其新型光學元件的數值孔徑（NA）為0.55，分辨率僅8nm。得益于NXE和DUV浸入式系統(tǒng)銷量增加，ASML營業(yè)收入持續(xù)增長。2019-2023年，ASML的營業(yè)收入持續(xù)增長，由118.2億歐元增長至275.59億歐元，年復合增長率為23.57%；2023年營業(yè)收入同比增長30.16%。這主要是因為NXE和DUV浸入式系統(tǒng)的銷量增加，供應趕上需求，其中DUV銷量從2022年的305臺增至2023年396臺。

NXE和DUX量價齊升，AMSL凈利潤快速增長。由于NXE和DUV浸入式銷售量的增加及盈利能力的提高，2019-2023年ASML凈利潤穩(wěn)定增長，由25.92億歐元增長至2023年的78.39億歐元；年復合增長率為31.87%。2023年凈利潤相較于2022年同比增長39.38%。ASML研發(fā)投入不斷加碼，牢牢占據高端光刻機市場。2023年ASML研發(fā)投入為39.81億歐元，同比增長22.35%，主要包括研發(fā)成本31.13億歐元、資本化支出9.45億歐元，且其研發(fā)費用占凈銷售額的11.3%。主要用于開發(fā)NXE：3800E系統(tǒng)，并進一步提高EUV安裝基礎系統(tǒng)的可用性與生產力；投資下一代EUV0.55NA（高數值孔徑）系統(tǒng)，以支持Logic和DRAM客戶的未來節(jié)點；引進浸入式系統(tǒng)NXT：1980Fi和干式系統(tǒng)XT：400M；下一代掃描儀持續(xù)開發(fā)，包括NXT：2150i和NXT：870B。

《2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》由中研普華產業(yè)研究院撰寫，本報告對該行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現狀、行業(yè)發(fā)展變化等進行了分析，重點分析了行業(yè)的發(fā)展現狀、如何面對行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競爭力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢預測等等。報告還綜合了行業(yè)的整體發(fā)展動態(tài)，對行業(yè)在產品方面提供了參考建議和具體解決辦法。