光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀 光刻膠行業(yè)發(fā)展前景展望

• 2022年3月30日 ZhouJiaLiang來源：互聯(lián)網(wǎng) 1202 78
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目前全球半導(dǎo)體材料市場之中最重要的供應(yīng)國就是日本，在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域之中，日本擁有絕對壟斷的地位，并且日本企業(yè)在全球半導(dǎo)體材料占據(jù)市場份額超過50%以上。而在這種光刻膠市場之中，更是處于一家獨(dú)大的局面。

在芯片的制造過程之中，光刻機(jī)是非常重要的，光刻機(jī)的精度將會直接決定最后芯片的性能好壞。目前全球半導(dǎo)體材料市場之中最重要的供應(yīng)國就是日本，在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域之中，日本擁有絕對壟斷的地位，并且日本企業(yè)在全球半導(dǎo)體材料占據(jù)市場份額超過50%以上。而在這種光刻膠市場之中，更是處于一家獨(dú)大的局面。

光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀

光刻膠是半導(dǎo)體制造的核心材料，行業(yè)壁壘高：光刻膠是半導(dǎo)體制造工藝中光刻技術(shù)的核心材料，其品質(zhì)直接決定集成電路的性能和良率，也是驅(qū)動摩爾定律得以實現(xiàn)的關(guān)鍵材料。光刻膠按照應(yīng)用領(lǐng)域可以分為PCB、面板、半導(dǎo)體用光刻膠三大類，其中半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)門檻最高，專利技術(shù)、原材料、設(shè)備驗證、客戶認(rèn)證使得行業(yè)壁壘高筑。國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈下游企業(yè)逐漸意識到核心材料國產(chǎn)化的重要性，國內(nèi)廠商也在積極研發(fā)中高端產(chǎn)品、加速客戶和產(chǎn)品導(dǎo)入、擴(kuò)建相關(guān)產(chǎn)能，在探索中砥礪前行，從而抓住國產(chǎn)化的契機(jī)。目前已有少數(shù)企業(yè)已開始嶄露頭角，實現(xiàn)從0到1的突破。

光刻膠技術(shù)壁壘較高，全球市場較為集中，其中日本合成橡膠(JSR)、日本信越化學(xué)、東京應(yīng)化(TOK)、美國杜邦等日美企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場的主導(dǎo)地位。日本光刻膠技術(shù)處于國際領(lǐng)先水平，特別是在高端EUV光刻膠市場，幾乎處于壟斷市場。目前我國低端光刻膠基本實現(xiàn)了國產(chǎn)替代，但高端光刻膠進(jìn)口依賴度仍較高，尤其是EUV光刻膠。

隨著中國本土半導(dǎo)體晶圓代工的產(chǎn)能增速迅猛，中國半導(dǎo)體光刻膠市場在2015年約為17.8億元，2020年已經(jīng)增長至約27.4億元，2021年或可實現(xiàn)31億元市場規(guī)模。經(jīng)過多年研發(fā)，中國廠商目前已經(jīng)實現(xiàn)了除EUV光刻膠外的突破，代表公司有彤程新材、上海新陽、徐州博康、晶瑞股份等。此外，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠通過了客戶驗證，在客戶選擇的50nm閃存產(chǎn)品中對控制柵進(jìn)行了驗證，結(jié)果顯示為滿足工藝要求，良率達(dá)標(biāo)。

從全球市場來看，2021年行業(yè)CR6約為88%，市場集中度高。東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場份額，陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場份額，韓國東進(jìn)占據(jù)11%的市場份額。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2022版光刻膠項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》分析

光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料，為推動光刻膠等半導(dǎo)體材料行業(yè)的發(fā)展，近年來，我國政府發(fā)布了多項利好政策支持光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，同時國內(nèi)企業(yè)也積極研發(fā)中高端產(chǎn)品，主動尋求光刻膠及其核心材料國產(chǎn)化?，F(xiàn)階段，我國光刻膠企業(yè)有晶瑞電材、彤程新材、華懋科技、南大光電等，在國產(chǎn)替代大契機(jī)下，國內(nèi)光刻膠企業(yè)將迎來發(fā)展良機(jī)。

光刻膠行業(yè)發(fā)展前景展望

伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度。同時，國內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點，國內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張。當(dāng)前我國高端光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距，半導(dǎo)體國產(chǎn)化的大趨勢下，國內(nèi)企業(yè)有望逐步突破與國內(nèi)集成電路制造工藝相匹配的光刻膠，所以必須要對光刻膠足夠的重視，不斷向日本和歐美等發(fā)達(dá)國家學(xué)習(xí)，努力開發(fā)出性能優(yōu)異的國產(chǎn)光刻膠，使我國在未來的市場中占據(jù)一席之地。

想要了解更多光刻膠行業(yè)的發(fā)展前景，請查閱《2022版光刻膠項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告》。

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  2022版光刻膠項目可行性專項研究及投資價值咨詢報告

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