據(jù)國外媒體報道，光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥(ASML)首席財務(wù)官近日在財報視頻會議上表示，向中國客戶出口DUV光刻機(jī)已經(jīng)無需申請出口許可證。由于光刻機(jī)的稀缺性和高工藝要求，近年來A股關(guān)于光刻機(jī)題材的炒作升溫。
據(jù)國外媒體報道，光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥(ASML)首席財務(wù)官近日在財報視頻會議上表示，向中國客戶出口DUV光刻機(jī)已經(jīng)無需申請出口許可證。由于光刻機(jī)的稀缺性和高工藝要求，近年來A股關(guān)于光刻機(jī)題材的炒作升溫。據(jù)不完全統(tǒng)計，目前A股光刻機(jī)概念股44只，但都是部分業(yè)務(wù)涉及到光刻機(jī)領(lǐng)域。
二級市場表現(xiàn)來看，今年以來已有11只光刻機(jī)概念股漲幅翻倍，不過與年內(nèi)高點(diǎn)相比，光刻機(jī)概念股整體回調(diào)力度不小。據(jù)統(tǒng)計，11股最新收盤價較年內(nèi)高點(diǎn)回調(diào)30%以上。
光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機(jī)是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院出版的《2020-2025年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報告》分析顯示：
2020年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀
主要的光刻機(jī)生產(chǎn)廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。
生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目"超分辨光刻裝備研制"通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。
隨著光刻機(jī)行業(yè)競爭的不斷加劇，大型企業(yè)間并購整合與資本運(yùn)作日趨頻繁，國內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究，特別是對當(dāng)前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領(lǐng)市場，取得先發(fā)優(yōu)勢。中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對光刻機(jī)行業(yè)市場海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶投資風(fēng)險與經(jīng)營成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競爭力。
欲了解關(guān)于光刻機(jī)行業(yè)具體詳情可以點(diǎn)擊查看中研普華研究報告《2020-2025年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報告》。
2020-2025年中國大硅片市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報告
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