第一章 半導體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純硅烷概述

1.1 高純硅烷簡介

1.2 高純硅烷的主要基本性能與質量指標

1.3 高純硅烷的主要應用領域

1.4 高純硅烷在發(fā)展我國電子工業(yè)中的重要作用

第二章 電子特種氣體及其應用市場

2.1 電子特種氣體概述

2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面

2.3 電子特種氣體的純凈度要求

2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場競爭的焦點問題

2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題

2.4.2 氣體配送及供應問題

2.4.3 儲存、使用中的安全性問題

2.4.4 成本性問題

2.5 國內外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述

2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場情況

2.5.2 國內電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展

第三章 高純硅烷氣體性能指標及制備、凈化的工藝路線

3.1 高純硅烷的性能指標

3.2 高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線

3.2.1 制備工藝法概述

3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷

3.2.2.1 工藝過程

3.2.2.2 主要反應

3.2.2.3 工藝特點

3.2.2.4 工藝法存在的問題

3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷

3.2.3.1 工藝過程

3.2.3.2 主要反應

3.2.3.3 工藝特點

3.2.3.4 工藝法存在的問題

3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷

3.2.4.1 工藝過程

3.2.4.2 主要反應

3.2.4.3 工藝特點

3.2.4.4 工藝法存在的問題

3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷

3.2.5.1 工藝過程

3.2.5.2 主要反應

3.2.5.3 工藝特點

3.2.5.4 工藝法存在的問題

3.2.6 烷氧基硅烷歧化法

3.2.6.1 工藝過程

3.2.6.2 主要反應

3.2.6.3 工藝特點

3.2.6.4 工藝法存在的問題

3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線

3.3.1 氣體的凈化方法概述

3.3.2 高純硅烷的凈化過程

3.4 工業(yè)高純硅烷氣體的包裝及貯運

第四章 國內外高純硅烷生產(chǎn)與主要企業(yè)現(xiàn)況

4.1 世界高純硅烷產(chǎn)銷、市場規(guī)模的概況

4.2 國外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)銷情況

4.3 國外高純硅烷主要生產(chǎn)企業(yè)簡況

4.3.1 rec silicon公司

4.3.2 dowcorning公司

4.3.3 sodiff新素材有限公司

4.3.4 memc公司

4.3.5 air liquid公司

4.3.6 日本電氣工業(yè)公司

4.3.7 大陽日酸公司

4.3.8 evonik industries公司

4.4 國內硅烷業(yè)的發(fā)展概述

4.4.1 我國高純硅烷業(yè)發(fā)展的概述

4.4.2 我國硅烷研發(fā)、生產(chǎn)的歷史

4.5 國內高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)現(xiàn)況

4.5.1 國內高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)總述

4.5.2 浙江中寧硅業(yè)有限公司

4.5.3 浙江賽林硅業(yè)有限公司

4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司

4.5.5 六九硅業(yè)有限公司

4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司

4.5.7 黑龍江金業(yè)電子氣體股份有限公司

4.5.8 深圳市金業(yè)長健新材料股份有限公司

第五章 高純硅烷主要應用領域的概述

5.1 高純硅烷在集成電路中的應用

5.1.1 集成電路芯片制程

5.1.2 化學氣相沉積和氣體應用

5.1.3 高純硅烷在化學氣相沉積中作為氣源形成的薄膜

5.2 高純硅烷在薄膜硅太陽電池中的應用

5.2.1 非晶硅薄膜太陽能電池

5.2.2 si薄膜的材料特性

5.2.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用

5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應用

5.4 高純硅烷在其它領域的應用

5.4.1 在特種玻璃制造中的應用

5.4.2 在電子部件制造中的應用

5.4.3 在化合物半導體材料制造中的應用

5.4.4 在化合物半導體材料制造中的應用

5.4.5 在軍工、航天產(chǎn)品中作為氣體燃料得到應用

5.5 高純硅烷在電子信息產(chǎn)品中各應用市場需求量的測算

第六章 高純硅烷主要應用市場之——集成電路產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢

6.1 世界半導體硅片生產(chǎn)與市場發(fā)展

6.1.1 世界半導體生產(chǎn)的現(xiàn)況

6.1.2 世界半導體硅片的生產(chǎn)狀況

6.2 我國半導體晶圓生產(chǎn)與市場現(xiàn)況與發(fā)展

6.2.1 我國集成電路市場、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

6.2.2 我國集成電路晶圓制造業(yè)情況

第七章 高純硅烷主要應用市場之——薄膜太陽能電池產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢

7.1 國內外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展

7.1.1 世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展

7.1.2 我國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況

7.2 薄膜太陽能電池的生產(chǎn)與市場

7.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種

7.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發(fā)展前景

7.2.3 薄膜太陽能電池生產(chǎn)及在光伏市場上的份額變化

7.3 國內外薄膜太陽能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)

第八章 高純硅烷主要應用市場之——液晶顯示器產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況與趨勢

8.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況

8.2 我國平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來發(fā)展預測

8.2.1 我國液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述

8.2.2 我國lcd面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來幾年發(fā)展預測

8.2.3 我國發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關政策及未來發(fā)展的預測、分析

圖表目錄：

圖表：高純硅烷結構圖

圖表：工業(yè)化的高純硅烷產(chǎn)品實物

圖表：半導體制造業(yè)用特種氣體按其使用時的特性分類情況

圖表：典型半導體晶元工廠的電子特種氣體供應系統(tǒng)流程圖

圖表：全球半導體工業(yè)用主要幾種高純度氣體的市場規(guī)模變化情況

圖表：吸附法提純硅烷的流程示意

圖表：世界近年的高純硅烷產(chǎn)銷量

圖表：2014年世界主要高純硅烷生產(chǎn)企業(yè)市場份額推估

圖表：2009年～2014年世界主要高純硅烷生產(chǎn)地區(qū)的產(chǎn)銷量比例變化

圖表：2014年高純硅烷產(chǎn)品在世界各個主要應用市場中的產(chǎn)銷量比例統(tǒng)計

圖表：rec硅材料公司設在華盛頓州的高純硅烷及多晶硅生產(chǎn)廠

圖表：ic硅片制造前工程的過程

圖表：各種cvd法反應裝置的原理

圖表：化學氣相沉積通常包括的八個主要步驟

圖表：化學氣相沉積過程中的傳輸、反應和成膜的過程示意圖

圖表：dram中使用的各種薄膜

圖表：邏輯lsi中使用的各種薄膜

圖表：si基薄膜的種類、特征及晶體結構

圖表：si基薄膜太陽能電池的基本結構

圖表：非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝過程

圖表：采用pecvo 形成si薄膜的制作

圖表：tft 陣列構成及sih4在其中的應用

圖表：等離子體cvd加工工序及sih4等電子特氣在其的供應系統(tǒng)

圖表：所示了采用等離子體cvd法制作tft陣列的實際裝備例

圖表：世界高純硅烷產(chǎn)品在四大應用市場領域所占的市場需求量的份額變化

圖表：2004-2014全球半導體市場規(guī)模和年增幅

圖表：世界不同直徑尺寸硅片市場發(fā)展趨勢

圖表：2001-2014年全球硅片出貨量變化率

圖表：2001-2014全球硅片銷售收入變化率

圖表：全球硅片出貨量按尺寸計預測

圖表：2006～2014年我國半導體及集成電路產(chǎn)銷情況

圖表：2005-2014年我國集成電路晶圓業(yè)發(fā)展規(guī)模

圖表：2014年全球光伏市場構成

圖表：2004-2014年中國太陽能電池產(chǎn)量

圖表：2006~2014年世界及我國光伏年裝機量

圖表：2007-2014年世界薄膜太陽能電池產(chǎn)能統(tǒng)計及預測

圖表：2009-2014年世界薄膜太陽能電池產(chǎn)量統(tǒng)計及預測

圖表：2008年-2014年世界液晶顯示器面板出貨量統(tǒng)計及預測

圖表：2004-2014年平板電視在世界主要國家、地區(qū)的普及情況

圖表：2005～2014年我國lcd面板的市場規(guī)模統(tǒng)計、預測

圖表：我國tft-lcd面板的產(chǎn)能統(tǒng)計及未來幾年發(fā)展預測

圖表：2005年2014年我國tft-lcd面板各代線在國內總產(chǎn)能的比例變化

圖表：高純氣體的種類

圖表：電子特種氣體的主要品種及分類

圖表：國外主要大型電子特氣企業(yè)在主導生產(chǎn)工藝路線及所達到純度的情況

圖表：國外半導體、光伏用高純硅烷的主要性能指標

圖表：幾種高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝法的特點

圖表：硅烷及雜質氫化物的沸點和相對分子質量

圖表：2009～2013年全世界高純硅烷主要生產(chǎn)廠家在世界市場所占份額

圖表：集成電路生產(chǎn)中采用cvd形成各種薄膜所使用氣體源的情況

圖表：2014年世界主要大型半導體廠家的銷售收入統(tǒng)計

圖表：2002～2014年世界硅片出貨量及銷售收入情況

圖表：semi對世界硅片的出貨量的統(tǒng)計及預測

圖表：硅片尺寸、質量要求與所對應的集成電路工藝技術的發(fā)展

圖表：2014年國內十大集成電路和分立器件制造企業(yè)列表

圖表：2006～2014年我國國內半導體級晶圓產(chǎn)量變化統(tǒng)計

圖表：我國集成電路晶圓制造業(yè)在半導體產(chǎn) 業(yè)中占有的比重情況

圖表：2000年-2014年我國晶圓生產(chǎn)線建線增長情況

圖表：我國集成電路晶圓制造6英寸以上生產(chǎn)線產(chǎn)能和工藝技術水平情況

圖表：2007-2014年我國太陽能電池出口情況

圖表：2007-2014年我國太陽能電池進口情況

圖表：近幾年全球薄膜太陽能電池產(chǎn)量及市場份額

圖表：國外主要薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家

圖表：境外薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家情況

圖表：我國國內薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家的情況

圖表：lcd中下游市場的劃分

圖表：全球平板顯示器在不同應用的需求市場的規(guī)模

圖表：2014年全世界g5以上tft-lcd產(chǎn)能比較

圖表：我國tft-lcd液晶面板線分布（至2014年底）