光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機的概念
光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在3 千萬至5億美元。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》顯示：
中國的光刻機產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展得如此緩慢，在于早期中國考慮到先進技術(shù)可以通過在海外購買的方式實現(xiàn)，因此導致國產(chǎn)的光刻機即使生產(chǎn)出來也沒有廠商愿意使用，畢竟國產(chǎn)光刻機在技術(shù)方面不如海外企業(yè)。直到近幾年，國產(chǎn)光刻機得到重視。
隨著半導體和信息通訊等產(chǎn)業(yè)穩(wěn)步擴張，全球光刻機銷量呈現(xiàn)穩(wěn)步增長態(tài)勢，2021年top3企業(yè)銷量達478臺，同比2020年增長65臺。整體來看，集成電路、面板和LED光刻機整體出貨約650臺，其中集成電路約500臺左右。
光刻機市場由三個品牌壟斷，ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市場占有率超過90%，是典型的寡頭壟斷市場，而ASML更是壟斷最高端的極紫外(EUV)光刻機市場。從全球光刻機市場份額來看，2020年ASML、Nikon和Canon分別占據(jù)全球光刻機市場84%、7%、5%，合計市場份額約96%。
從政策環(huán)境上來看，我國對于光刻機行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補助和人才方面的培養(yǎng)，以及進出口，投融資方面的政策扶持。
EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機，采用EUV光源，使用的光波波長只有13.5nm， NA (數(shù)值孔徑)為0.33， 目前全球只有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機。
2020年中國集成電路累計產(chǎn)量達到了2614.2億塊，同比增長29.53%。2021年中國集成電路累計產(chǎn)量達到了3594億塊，同比增長37.48%。中國已成為全球規(guī)模最大、增速最快的集成電路市場。
光刻機的下游市場，數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導體市場規(guī)模達5559，同比2020年增長26.2%。中國集成電路銷售額超萬億元，達10458.3億元，同比2020年增長18.2%。
國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈在光刻機方面的進展，讓中國正成為全球最具潛力的光刻機生產(chǎn)國，這方面是ASML所在的荷蘭和尼康所在的日本都無法達到的，產(chǎn)業(yè)鏈已成為中國光刻機的核心競爭優(yōu)勢。
中研普華利用多種獨創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對市場海量的數(shù)據(jù)進行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù)，最大限度地降低客戶投資風險與經(jīng)營成本，把握投資機遇，提高企業(yè)競爭力。想要了解更多最新的專業(yè)分析請點擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》。
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2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告
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