據(jù)悉，ASML 2017年推出EUV(極紫外光刻機(jī))，目前是該領(lǐng)域唯一的玩家，當(dāng)前EUV光刻機(jī)均價(jià)在1.5億美元一臺(約合9.66億元人民幣)，這臺復(fù)雜的設(shè)備有著超10萬個(gè)零部件和400多米長的線纜。
本周，光刻機(jī)一哥ASML(荷蘭阿斯麥)在在線投資者活動中上調(diào)了業(yè)績預(yù)期。公司預(yù)計(jì)2025年的營收將達(dá)到240億到300億歐元，2025年的毛利率在54~56%，今后十年(2020~2030)年化增長率11%?？勺鰠⒖嫉氖?，2020年ASML營收為140億歐元，毛利率48.6%，共賣出256臺光刻機(jī)系統(tǒng)產(chǎn)品。
ASML方面表示，半導(dǎo)體行業(yè)需求的高速增長使得自己的產(chǎn)品頗受市場歡迎。據(jù)悉，ASML 2017年推出EUV(極紫外光刻機(jī))，目前是該領(lǐng)域唯一的玩家，當(dāng)前EUV光刻機(jī)均價(jià)在1.5億美元一臺(約合9.66億元人民幣)，這臺復(fù)雜的設(shè)備有著超10萬個(gè)零部件和400多米長的線纜。根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2020-2025年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告》顯示：
目前，主要的光刻機(jī)生產(chǎn)廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。
生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項(xiàng)目"超分辨光刻裝備研制"通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達(dá)到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。
隨著光刻機(jī)行業(yè)競爭的不斷加劇，大型企業(yè)間并購整合與資本運(yùn)作日趨頻繁，國內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來愈重視對行業(yè)市場的分析研究，特別是對當(dāng)前市場環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領(lǐng)市場，取得先發(fā)優(yōu)勢。中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對光刻機(jī)行業(yè)市場海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競爭力。
更多行業(yè)調(diào)研分析，可點(diǎn)擊查閱中研普華研究報(bào)告《2020-2025年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告》。
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2020-2025年中國光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告
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