臺積電占據(jù)了芯片代工行業(yè)的半壁江山，為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是前所未有的，然而這也給其它的代工廠商帶來了危機。
從手機電腦等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，再到汽車芯片，全球芯片短缺依然在加劇。臺積電占據(jù)了芯片代工行業(yè)的半壁江山，為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是前所未有的，然而這也給其它的代工廠商帶來了危機。而臺積電承諾，將優(yōu)先供應(yīng)汽車芯片產(chǎn)能。
光刻機(Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
根據(jù)中研普華出版的《2020-2025年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展策略研究報告》，光刻機影響著中國乃至世界半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)要發(fā)展就離不開芯片的研發(fā)，而芯片的研發(fā)也離不開光刻機這個載體。
因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多。
而對于正在步入主流的全新5nm工藝而言，需求巨大的不僅僅是臺積電一家，三星最近基于5nm工藝也可以說是風生水起。另外今年英特爾也有提升工藝水平的計劃，5nm的EUV光刻機真的是“狼多肉少”的局面。
2021年全球范圍內(nèi)的汽車芯片短缺將造成200萬至450萬輛汽車產(chǎn)量的損失，相當于近十年以來全球汽車年產(chǎn)量的近5%。汽車芯片的短缺對于汽車產(chǎn)業(yè)的影響仍將持續(xù)半年甚至三個季度。
戴姆勒計劃削減在歐洲的汽車產(chǎn)量，將有限的芯片供應(yīng)優(yōu)先提供給生產(chǎn)奔馳S級等車型，以此帶來更高利潤率。大眾集團希望確保芯片能優(yōu)先供應(yīng)保時捷旗下車型以及斯柯達新推出的純電動SUV車型。為了保證更高的利益，還有不少車企做出了類似“棄車保帥”的決策。而在A股市場，以長城汽車為代表的汽車股也因芯片短缺出現(xiàn)階段性大幅下挫。
芯片供應(yīng)短缺問題是真實存在的。多重因素的疊加影響，導(dǎo)致芯片供需矛盾在這一時間段集中顯現(xiàn)。由于產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)企業(yè)都在加長備貨周期，加之短期內(nèi)芯片產(chǎn)能依然不足，芯片價格出現(xiàn)上漲或?qū)⒉豢杀苊狻?/p>
近幾周，越來越多的汽車制造商受到全球半導(dǎo)體元件短缺加劇的打擊，導(dǎo)致減產(chǎn)和裁員。大眾中國區(qū)業(yè)務(wù)負責人Stephan Wollenstein表示，希望芯片供應(yīng)短缺能在3月前結(jié)束，但他同時警告稱，供應(yīng)短缺可能會持續(xù)到第二季度。而芯片制造商們認為，汽車制造商們應(yīng)為供應(yīng)中斷負部分責任。
在中國臺灣經(jīng)濟部長Wang Mei-hua與臺積電高層交談之后，臺積電表示，如果能夠進一步增加產(chǎn)能，將優(yōu)先生產(chǎn)汽車芯片。
臺灣經(jīng)濟部表示，臺積電周日(1月24日)已向他們表態(tài)，如果能夠進一步增加產(chǎn)能，該公司將優(yōu)化芯片生產(chǎn)流程，提高效率，并優(yōu)先考慮生產(chǎn)汽車芯片。
全球最大的代工芯片制造商臺積電表示，目前該公司的產(chǎn)能為滿負荷運轉(zhuǎn)，但其已向經(jīng)濟部保證，如果能通過優(yōu)化產(chǎn)能來提高產(chǎn)量，該公司將與政府合作，優(yōu)先供應(yīng)汽車芯片。
另一方面，光刻機對中國意義重大。中國芯片產(chǎn)業(yè)逐步實現(xiàn)突破，例如華為推出的麒麟系列手機處理器，目前華為最新的處理器麒麟9000已經(jīng)達到了5nm工藝。芯片研究上中國逐步跟上國外的步伐，然而在芯片“變現(xiàn)“的過程中，卻出現(xiàn)了問題，中國還沒能造出好的光刻機。
此前，蘇州晶瑞化學股份有限公司斥資7100萬元向ASML購買的DUV光刻機已到位。日前，晶瑞公司發(fā)布消息稱，該公司已從ASML手里購入一臺DUV光刻機。相較于EUV光刻機，DUV的生產(chǎn)工藝復(fù)雜，需要反復(fù)曝光才能實現(xiàn)7nm的制造要求，因此生產(chǎn)成本高，生產(chǎn)效率低。且由于反復(fù)曝光，反復(fù)刻蝕良率更加難以控制。
欲了解更詳實的光刻機行業(yè)發(fā)展前景分析請點擊中研普華報告《2020-2025年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展策略研究報告》
2020-2025年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展策略研究報告
光刻機行業(yè)研究報告旨在從國家經(jīng)濟和產(chǎn)業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略入手，分析光刻機未來的政策走向和監(jiān)管體制的發(fā)展趨勢，挖掘光刻機行業(yè)的市場潛力，基于重點細分市場領(lǐng)域的深度研究，提供對產(chǎn)業(yè)規(guī)模、產(chǎn)業(yè)結(jié)...
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