在機遇與挑戰(zhàn)中把握數碼電子行業(yè)趨勢，才能從中取勢得到更好的發(fā)展！
在市場競爭日益激烈、新產品層出不窮的今天，要開發(fā)一個新品并能迅速在市場上推廣其難度是可想而知的。只有經過科學的市場分析、消費者分析、競爭對手的分析，做到有的放矢，才能使企業(yè)開發(fā)的新...
中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。中科院研制的這種光刻機不能(像一些網媒說的)用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的分辨率，用于一些特殊制造場景，很經濟。
11月29日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。中科院研制的這種光刻機不能(像一些網媒說的)用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的分辨率，用于一些特殊制造場景，很經濟。
先解釋下：光刻機不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。
驗收會上也有記者問：該光刻設備能不能刻芯片，打破國外壟斷?光電所專家回答說，用于芯片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。
總之，中科院的22納米分辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。
為了節(jié)能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極端。線條細到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，線條粗細不能低于光波長的一半。頂尖光刻機用波長13.5納米的極紫外光源，好刻10納米以下的線條。
但穩(wěn)定的、大功率的極紫外光源很難造，一個得3000萬元人民幣。要求工作環(huán)境嚴苛，配合的光學和機械部件又極端精密，所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創(chuàng)造了“一臺賣一億美金”的神話。
十幾年前，國際上開始對表面等離子體(surface plasma，SP)光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究，是較早出成果的一個團隊。所謂SP，光電所的科學家楊勇向筆者解釋：拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子;光投影在金屬上，這些電子就有序地震蕩，產生波長幾十納米的電磁波，可用來光刻。
但這種電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了，才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法比?？處资{米級的芯片是沒法用SP光刻機的，至少以現在的技術不能。
如何應對2019年新形勢下中國電子行業(yè)的變化與挑戰(zhàn)？
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